芯片测试全流程:CP、FT、老化与诊断签核
更新时间:2026-10-01。这是 DFT 与测试 10 篇专题的收尾,把前面生成的向量放到“晶圆 → 封装 → 出货”的真实产线流程里串起来。
本文要回答的问题
- 为什么封装前后各测一次(CP/FT),各测什么?
- 老化和系统级测试在抓哪类漏网缺陷?
- 一颗芯片怎么被分 bin,测试成本怎么控制?
一、CP:晶圆探针测试
晶圆还没切割时,探针卡扎在每个 die 的焊盘上跑测试:
- 尽早筛掉坏 die,避免花封装成本。
- 可跑部分关键图案(受探针供电/速度限制,通常不做全部实速项)。
- 记录每个 die 的结果和 bin,统计晶圆良率图,给工艺反馈。
二、FT:封装后终测
封装完成后在 ATE 上做完整测试,这是出货前的正式关卡:
- 跑全量 stuck-at / transition / 模拟 / 高速接口测试。
- 多温度(冷/常温/热)、多电压条件,保证规格边界内可靠。
- 按性能/功耗分 bin(如高频高性能档、低频档),差异化定价。
三、老化与系统级测试
- burn-in 老化:在高温高压下加电运行一段时间,加速并筛除“早期失效率”高的脆弱器件(浴盆曲线左端),车规等高可靠产品常做。
- SLT(System Level Test):在接近真实应用的板卡上跑实际负载/操作系统,抓 ATE 结构化测试和功能测试都漏掉的缺陷,大型 SoC/GPU 普遍采用。
四、量产测试流程图
五、成本与签核闭环
- ATE 时间和老化时长直接折算成本,按产品等级裁剪测试项;关键不是“测得越多越好”,而是以目标 DPPM(百万缺陷数)做最经济的组合。
- DFT 覆盖率、向量、测试程序需版本签核并与网表/PDK 对应。
- fail bin 与诊断数据回流,驱动 DFT 补强、设计改进和工艺良率提升。
六、常见坑
- CP 测太少,坏 die 流到封装拉高成本;或 CP 测过多,探针成本反超收益。
- FT 只在常温单压测,边界条件缺陷漏到客户现场。
- 分 bin 标准与实测能力不匹配,高档芯片现场翻车。
- 结构化测试通过却跳过 SLT,残余缺陷在复杂负载下才暴露。
- 测试程序与网表版本漂移,造成误判。
小结
CP 早筛省封装、FT 全测分 bin、burn-in 去早期失效、SLT 抓残余缺陷;以目标 DPPM 和成本做组合,诊断数据闭环回流。DFT 与测试 10 篇至此完成,T4 的 37 个位置全部齐备。
总结
DFT 向量要放进真实量产流水线才兑现价值:**CP(晶圆探针测试)**在切割前扎针测每个 die,尽早筛坏片省封装成本、出晶圆良率图,但受探针供电速度限制通常不做全部实速项;FT(封装后终测)是出货正式关卡,在 ATE 上跑全量 stuck-at/transition/模拟/高速接口,并做多温度多电压、按性能功耗分 bin 差异化定价。两道补充关卡抓漏网缺陷:burn-in 老化用高温高压加速筛掉浴盆曲线左端的早期脆弱器件(车规常做),SLT 系统级测试在真实板卡上跑实际负载/操作系统,抓结构化和功能测试都漏掉的缺陷(大 SoC/GPU 普遍采用)。关键理念是 ATE 时间即成本,不是测得越多越好,而是以目标 DPPM 做最经济的测试组合,测试程序/向量/网表版本签核对应,fail bin 和诊断数据回流驱动 DFT、设计和工艺改进。